标准编号：IEC 62047-14-2012
标准名称：半导体装置 微电机装置 第14部分：金属薄膜材料的成型极限测量方法
英文名称：Semiconductor devices - Microelectromechanical devices - Part 14： Forming limit measuring method of metallic film materials
发布部门：国际电工委员会(IEC)
发布日期：2012-02-01
实施日期：
标准状态：现行
文件格式：PDF
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