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SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法

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发表于 2022-12-27 10:58:56 | 显示全部楼层 |阅读模式
本标准规定了用表面轮廓仪和原子力显微镜测定碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法。
标准编号:SJ/T 11503-2015
标准名称:碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
英文名称:Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
标准状态:现行
起草单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、工业和信息化部电子工业标准化研究
文件格式:PDF
文件页数:10页
文件大小:2.10MB

标准全文下载:
SJT 11503-2015.pdf (2.1 MB)

文档首页截图如下:
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