本标准规定了高纯钨中锂、铍、硼、铬、钛、钒、锰、铁、钴、镍、铜、镓、砷、锶、锆、钽、铌、钼、镉、锑、铪、铅和铋量的测定方法。
本标准适用于高纯钨中痕量杂质的测定，测定范围：0.0001%～0.010%。
标准编号：YS/T 900-2013
标准名称：高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称：Methods for chemical analysis of the high purity tungsten-Determination of trace impurity element content-Inductively coupled plasma mass spectrometry
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
起草单位：北京有色金属研究总院、金川新材料科技股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司
文件格式：PDF
文件页数：5页
文件大小：209.55KB
标准全文下载：
文档首页截图如下：
 |
声明：
1、内容来自用户上传，仅供会员交流学习，禁止用于商业用途,下载后请在24小时之内删除；
2、如涉及侵权问题，请立即告知本站(qbw86@foxmail.com)，本站将及时删除并致以最深的歉意；
