GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

xuzhou2163 · 发表于 2022-11-26 15:32:17

本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。
标准编号：GB/T 16879-1997
标准名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
发布部门：国家技术监督局
发布日期：1997-06-20
实施日期：1998-03-01
标准状态：现行
起草单位：中国科学院微电子中心
起草人员：陈宝钦、陈森锦、廖温初
文件格式：PDF
文件页数：11页
文件大小：348.29KB

标准全文下载：

GBT 16879-1997.pdf (348.29 KB)

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GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

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