本文件描述了300 mm 硅片表面0.2 mm~20 mm 空间波长范围内的纳米形貌(NT)评价方法。
本文件适用于硅抛光片、硅外延片、绝缘体上硅(SOI)片等300 mm 无图形硅片的评价。
标准编号：GB/T 47906-2026
标准名称：300mm硅片表面纳米形貌的评价方法
英文名称：Practice methods for nanotopography of 300 mm silicon wafer surface
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期：2026-07-02
实施日期：2027-02-01
起草单位：山东有研艾斯半导体材料有限公司、金瑞泓微电子（衢州）有限公司、西安奕斯伟材料科技股份有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、浙江晶越半导体有限公司、上海超硅半导体股份有限公司、深圳中科飞测科技股份有限公司、郑州合晶硅材料有限公司、江苏神州半导体科技股份有限公司、扬帆半导体材料（江苏）有限公司
起草人员：朱晓彤、宁永铎、刘云霞、陈仁彬、张海英、张婉婉、徐新华、顾广安、高冰、陈猛、马砚忠、钟佑生、朱培文、杨杰
文件格式：PDF
文件页数：12页
文件大小：1.03 MB
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