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T/ICMTIA 4.2-2020 集成电路用氟化氩光刻胶单体 第2部分:固体甲基丙烯酸酯类

hezhx2006
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团体标准 147 0 2023-2-1 16:01:26
本文件适用于由有机原料、溶剂、适宜阻聚剂等组分合成经精制后可适用于氟化氩树脂制备用的单体。
标准编号:T/ICMTIA 4.2-2020
标准名称:集成电路用氟化氩光刻胶单体 第2部分:固体甲基丙烯酸酯类
英文名称:ArF photoresist monomer for integrated circuits Part 2: Solid methacrylate
发布部门:中关村集成电路材料产业技术创新联盟
发布日期:2020-12-31
实施日期:2021-03-01
起草单位:徐州博康信息化学品有限公司
起草人员:傅志伟、邵严亮、贺宝元、薛春、杨影影
文件格式:PDF
文件页数:17页
文件大小:441.37KB

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