GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

显示全部楼层 · 发表于 2023-1-29 08:43:47

本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013 cm-2。
本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。
注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
标准编号：GB/T 39145-2020
标准名称：硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
英文名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
发布部门：国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会
发布日期：2020-10-11
实施日期：2021-09-01
标准状态：现行
起草单位：南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司
起草人员：骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、李俊需
文件格式：PDF
文件页数：8页
文件大小：318.96KB

标准全文下载：

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GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法