本标准规定了MEMS惯性器件制造过程中湿法腐蚀的工艺流程、工艺要求和检验要求。
本标准适用于圆片上铝、金、铬、钦、氧化硅等薄膜湿法腐蚀以及硅各向异性湿法腐蚀(以下简称硅湿法腐蚀)的工艺。
标准编号：SJ 21165-2016
标准名称：MEMS 惯性器件湿法腐蚀工艺技术要求
英文名称：Technical requirements for MEMS inertial devices wet etching process
发布部门：国家国防科技工业局
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
起草单位：中国电子科技集团公司第十三研究所
文件格式：PDF
文件页数：12页
文件大小：2.25MB
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