YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法

显示全部楼层 · 发表于 2023-1-1 13:43:35

本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。
本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。
标准编号：YS/T 1124-2016
标准名称：磁性溅射靶材透磁率测试方法
英文名称：Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2016-07-11
实施日期：2017-01-01
标准状态：现行
起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院
起草人员：罗俊锋、万小勇、向磊、丁照崇、李勇军、何金江、徐国进、夏乾坤、刘晓、王越
文件格式：PDF
文件页数：5页
文件大小：212.15KB

标准全文下载：

YST 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法.pdf (212.15 KB)

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YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法

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