标准编号：ASTM F2113-2001(2007)
标准名称：薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
英文名称：Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
发布部门：美国材料与试验协会(ASTM)
发布日期：
实施日期：2001-01-01
标准状态：现行
文件格式：PDF
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