标准编号:ASTM F1894-1998(2011)
标准名称:定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法
英文名称:Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness
发布部门:美国材料与试验协会(ASTM)
发布日期:
实施日期:1998-01-01
标准状态:现行
文件格式:PDF