T/CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材

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本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。
本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。
标准编号：T/CAS 304-2018
标准名称：磁控溅射硅靶材及绑定靶材
英文名称：Magnetron sputtering silicon targets and bound targets
发布部门：中国标准化协会
发布日期：2018-05-29
实施日期：2018-05-29
标准状态：现行
起草单位：青岛蓝光晶科新材料有限公司、大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司、河北东同光电科技有限公司、大连理工大学
文件格式：PDF
文件页数：13页
文件大小：4.58MB

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2024-5-18 22:10 上传

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