GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。
本文件适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15 nm～105 nm。
标准编号：GB/T 40279-2021
标准名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
英文名称：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期：2021-08-20
实施日期：2022-03-01
标准状态：现行
起草单位：有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技(上海)有限公司、开化县检验检测研究院
起草人员：徐继平、宁永铎、卢立延、孙燕、张海英、由佰玲、潘金平、李扬、胡晓亮、张雪囡、楼春兰、盘健冰
文件格式：PDF
文件页数：9页
文件大小：308.79KB

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2023-8-2 13:50 上传

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